F\u00f6r yrkesverksamma inom elektronik- och materialtillverkning har atomlagerdeponering (ALD) l\u00e4nge varit en h\u00f6gt v\u00e4rderad teknik. ALD \u00e4r en exakt, konform och anpassningsbar tunnfilmsbel\u00e4ggning i nanoskala som anv\u00e4nds f\u00f6r att skydda och f\u00f6rl\u00e4nga livsl\u00e4ngden hos m\u00e5nga av v\u00e4rldens mest avancerade produkter inom industriell elektronik och halvledarteknik.<\/p>\n
Men t\u00e4nk om tekniken kunde anv\u00e4ndas f\u00f6r att bel\u00e4gga aktiva l\u00e4kemedelssubstanser (API:er)? En skr\u00e4ddarsydd tunnfilmsbel\u00e4ggning av l\u00e5ngsamt uppl\u00f6sande oorganiska oxider runt den organiska aktiva l\u00e4kemedelssubstansen skulle m\u00f6jligg\u00f6ra en kontrollerad fris\u00e4ttning till blodbanan under dagar, veckor eller m\u00e5nader. Samtidigt skulle substansen skyddas och stabiliseras, vilket skulle f\u00f6rl\u00e4nga behandlingens varaktighet och effekt.<\/p>\n
Det var det fascinerande f\u00f6rslag som Anders Johansson och M\u00e5rten Rooth, Nanexas medgrundare, presenterade vid ett m\u00f6te med ett stort l\u00e4kemedelsf\u00f6retag 2013.<\/p>\n
\u201dVi hade arbetat med ALD f\u00f6r medicintekniska produkter n\u00e4r id\u00e9n att till\u00e4mpa tekniken p\u00e5 aktiva l\u00e4kemedelssubstanser f\u00f6rst d\u00f6k upp. Kunderna beskrev sina utmaningar med l\u00e4kemedelstillf\u00f6rsel, och vi b\u00f6rjade fundera: t\u00e4nk om vi kunde anv\u00e4nda en ALD-bel\u00e4ggning f\u00f6r sj\u00e4lva l\u00e4kemedlet, inte bara f\u00f6r medicinsk utrustning?\u201d<\/p>\n
\u201dVi hade haft blandade resultat i v\u00e5ra medicintekniska projekt, men tidigt i l\u00e4kemedelsutvecklingen ins\u00e5g vi: vi har verkligen n\u00e5got h\u00e4r, det h\u00e4r kan fungera. Det kommer att bli sv\u00e5rt, men vi kan g\u00f6ra det \u2013 och till slut gjorde vi det.\u201d<\/p>\n
Patentans\u00f6kan f\u00f6r den f\u00f6rsta ALD-inkapslade aktiva l\u00e4kemedelssubstansen l\u00e4mnades in 2013. N\u00e4r ber\u00e4ttelsen publicerades p\u00e5gick den f\u00f6rsta kliniska studien med ett PharmaShell\u00ae-l\u00e4kemedel, det vill s\u00e4ga ett ALD-inkapslat l\u00e4kemedel, och fler studier var p\u00e5 g\u00e5ng.<\/p>\n
\u201dAgglomerering av partiklar. Vi arbetade med m\u00e5nga olika substanser och st\u00f6tte g\u00e5ng p\u00e5 g\u00e5ng p\u00e5 problem. Men eftersom vi var f\u00f6rst inom omr\u00e5det l\u00e4t vi oss inte avskr\u00e4ckas. Vi l\u00f6ste varje problem efter hand som det uppstod och visste att vi befann oss p\u00e5 helt ny mark.\u201d<\/p>\n
\u201dI slut\u00e4ndan blev l\u00f6sningen p\u00e5 agglomereringsproblemet en central del av v\u00e5rt patent och v\u00e5r process. Det \u00e4r detta som g\u00f6r PharmaShell\u00ae unikt. Vi bygger upp h\u00f6ljet i upprepade skikt och varvar bel\u00e4ggning med siktning tills varje partikel \u00e4r helt f\u00f6rseglad.\u201d<\/p>\n
\u201dDet \u00e4r en process som sker under normala omgivningsf\u00f6rh\u00e5llanden, utan l\u00f6sningsmedel, och som m\u00f6jligg\u00f6r en h\u00f6g l\u00e4kemedelshalt p\u00e5 upp till 80 procent. Den ger en exceptionell kontroll \u00f6ver bel\u00e4ggningens tjocklek, stor flexibilitet och m\u00f6jlighet att bel\u00e4gga ett brett spektrum av aktiva l\u00e4kemedelssubstanser, inklusive biologiska l\u00e4kemedel, proteiner och peptider.\u201d<\/p>\n
L\u00e5ngtidsverkande injektionsl\u00e4kemedel har stor potential. De kan f\u00f6rb\u00e4ttra l\u00e4kemedels tolerabilitet, minska antalet injektioner som kr\u00e4vs vid befintliga l\u00e5ngtidsbehandlingar och m\u00f6jligg\u00f6ra utvecklingen av nya terapier.<\/p>\n
\u201dJag tror att anv\u00e4ndningen kommer att \u00f6ka. N\u00e4r man i dag injicerar en aktiv l\u00e4kemedelssubstans f\u00e5r man en omedelbar effekt, men substansen f\u00f6rsvinner sedan snabbt ut i den systemiska cirkulationen. Att kunna f\u00f6rhindra detta genom att skapa en dep\u00e5 med en t\u00e4t och kontrollerbar bel\u00e4ggning \u00f6ppnar m\u00e5nga m\u00f6jligheter att f\u00f6rl\u00e4nga en behandlings verkningsprofil, effekt och v\u00e4rde.\u201d<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
F\u00f6r yrkesverksamma inom elektronik- och materialtillverkning har atomlagerdeponering (ALD) l\u00e4nge varit en h\u00f6gt v\u00e4rderad teknik. ALD \u00e4r en exakt, konform och anpassningsbar tunnfilmsbel\u00e4ggning i nanoskala som anv\u00e4nds f\u00f6r att skydda och f\u00f6rl\u00e4nga livsl\u00e4ngden hos m\u00e5nga av v\u00e4rldens mest avancerade produkter inom industriell elektronik och halvledarteknik.<\/p>\n